Pracownicy ukradli tajemnice ASML
12 kwietnia 2019, 05:37Właśnie wyszło na jaw, że przed 4 laty chińscy pracownicy ukradli tajemnice firmowe holenderskiego producenta sprzętu do produkcji półprzewodników, ASML. O sprawie poinformował dziennik finansowy Financieele Dagblad. Straty sięgają setek milionów euro.
Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV
14 lipca 2017, 13:21Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV
Samsung wydziela produkcję chipów i zdradza plany na przyszłość
25 maja 2017, 07:12Samsung, drugi największy na świecie producent układów scalonych, nie spoczywa na laurach i walcząc o pozycję rynkowego lidera wydziela ze swoich struktur produkcję półprzewodników, a jednocześnie ogłasza swoje zamiary co do kolejnych procesów technologicznych
Intelowskie 7 nanometrów bez EUV?
17 sierpnia 2016, 10:20Podczas Intel Developer Forum przedstawiciele Intela wyrazili wątpliwości, czy ASML zdąży przygotować technologię ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV), by była ona gotowa do masowej produkcji 7-nanometrowych układów scalonych.
Coraz więcej zamówień na EUV
22 lipca 2016, 10:57ASML informuje o rosnącej liczbie zamówień na systemy do produkcji półprzewodników w technologii ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV). W ostatnim kwartale zamówiono 4 takie systemy, a ASLM spodziewa się, że w przyszłym roku sprzeda ich 12.
TSMC zapowiada szerokie wdrożenie EUV
15 lipca 2016, 09:24Największy na świecie producent półprzewodników, TSMC, oświadczył, że ma na szeroką skalę wykorzystywać ekstremalnie daleki ultrafiolet (EUV). Sądzimy, że EUV do roku 2020 stanie się opłacalna przy masowej produkcji. Planujemy wówczas wdrożenie technologii 5 nanometrów
Samsung kupi urządzenia do EUV
9 maja 2016, 10:00Samsung Electronics chce wykorzystywać litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) w swoim procesie produkcyjnym. Firma ma zamiar konkurować z takimi gigantami jak TSMC. Dlatego też koreański koncern kupić urządzenia NXE3400 holenderskiej ASML
EUV coraz bliżej
4 marca 2016, 07:22W końcu jasna przyszłość rysuje się przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Producenci układów scalonych z niecierpliwością czekają na tę technologię, gdyż pozwala ona na naświetlenie plastra krzemowego w jednym przebiegu
EUV zadebiutuje w 2018 roku?
25 stycznia 2016, 15:30Wszystko wskazuje na to, że litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będzie gotowa na czas, by wykorzystać tę technologię do produkcji układów scalonych w procesie 7 nanometrów.
Ruszyły prace nad 5 nanometrami
21 grudnia 2015, 10:16Koncern TSNM rozpoczął prace nad 5-nanometrowym procesem technologicznym. Jednocześnie firma wciąż nie zdecydowała, czy będzie używała litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV)
